Thấu kính thủy tinh silica/Sapphire hợp nhất cho quang học laser có độ chính xác cao

DG quang học đã thiết lập một hệ thống sản xuất và kiểm soát chất lượng nhất quán từ thiết kế quang học, thông qua sự phát triển của tinh thể quang học, đến đánh bóng và phủ để đáp ứng nhu cầu của khách hàng nhanh chóng như một nhà sản xuất quang học laser toàn diện. Vui lòng liên hệ với chúng tôi nếu có yêu cầu cụ thể nếu bạn yêu cầu các thông số kỹ thuật khác cho ống kính và gương.
Quang học laze bao gồm tất cả các thành phần quang học và hệ thống quang học được sử dụng trong laze hoặc để điều khiển—hoặc truyền—ánh sáng laze. Các thành phần quang học laser có yêu cầu nghiêm ngặt hơn về chất lượng bề mặt và lớp phủ khi so sánh với quang học hình ảnh tiêu chuẩn. Chất lượng bề mặt phải cao trong các ứng dụng laser nhạy cảm, đặc biệt đối với gương và lăng kính laser. Tổn thất quang học phải được giảm thiểu. Các bộ phận phải có ngưỡng sát thương laser cao, đặc biệt nếu chúng được sử dụng với laser xung năng lượng cao chẳng hạn như laser công suất cao Q-switched.
DG Optics sản xuất nhiều loại thiết bị quang học laser có độ chính xác cao. Thiết bị hiện đại của chúng tôi cho phép chúng tôi sản xuất các bộ phận quang học chất lượng cao, hoạt động ổn định ngay cả trong những điều kiện đòi hỏi khắt khe nhất và phù hợp để sử dụng trong laser CO2, laser sợi quang công suất cao, laser trạng thái rắn và điốt laser. Dòng sản phẩm quang học laser của chúng tôi bao gồm thấu kính laser, bộ lọc tia laser, gương lăng kính và bộ tách chùm tia laser.
Quang học laze có thể được chế tạo từ nhiều chất nền khác nhau, bao gồm BK7, H-K9L, Sapphire, silica nung chảy cấp UV, silica nung chảy cấp IR, canxi florua (CaF2), magie florua (MgF2), kẽm selenua (ZnSe), Kẽm sulfua (ZnS), Gallium Arsenide (GaAs), germanium (Ge) và silicon (Si). Lớp phủ điện môi thường được sử dụng để cải thiện độ phản xạ gương cho cả phân cực S và P. Đối với hầu hết các ứng dụng laser, việc truyền qua bộ lọc hoặc phản xạ trên một dải rất hẹp (độ rộng của vạch laser) là yếu tố then chốt và cả chất nền lẫn lớp phủ phải được lựa chọn cẩn thận để cải thiện hiệu suất quang học của các thiết bị dựa trên laser. Laser xung siêu ngắn là ngoại lệ đối với quy tắc này; chúng có băng thông quang phổ lớn và yêu cầu ống kính và bộ lọc có phạm vi truyền rộng.